Manipulator

4-axis Helium-free Cryogenic Manipulator

Fermi Instruments에서 제공하는 4축 Helium-free Cryogenic Manipulator는 시료 위치와 각도를 정밀하게 제어할 수 있습니다.
4축은 샘플 스테이지가 X, Y, Z 방향으로 이동할 수 있음을 의미하며 극 회전 R1(Z축을 중심으로)을 실현할 수 있습니다.

Plasma

VUV Source(BL-1200s)

FERMI BL-1200s는 차동 챔버, 단색 챔버, 멀티 필터 컨버터 및 UHV 밸리 절연 포커싱 캐피럴리를 탑재한 특수 설계 고휘도 다중 가스 VUV 소스입니다. 다양한 기체 (He, Ne, Ar, Kr, Xe 등)로 작동할 수 있으며, 적은 광점출력과 가스압이 증가하지 않아야 하는 요건에 충족됩니다.

Stage

Stage

고정밀 스테이지는 대기, 고진공 및 초고진공 등의 환경에서 이상적인 적합성을 보임과 동시에 정확성과 내구성을 겸비한 포지션 장비입니다.
진공시의 핵심은 낮은 아웃개싱(Outgasing)을 가지는 소재,플라스틱,윤활유,구성요소 등의 적절한 선택에 있는데, 알루미늄 스테인리스 스틸 등으로 구성 소재를 제한하고 있습니다.

싱크로트론 방사선조사, 반도체 리소그래피 및 우주개발용 어플리케이션을 위한 맞춤형 진공호환 솔루션을 개발하였으며,초고진공에서 무오일(Oil-Free) 윤활 뿐만 아니라 고정밀 선형(linear) 및 앵글(angular) 인코더를 제공합니다. 제품은 포지션용 스테이지와 진공용 스테이지로 구분됩니다

DCM

Single Cam DCM

주 회전축을 제2결정의 표면면과 일치시킵니다. 주축을 중심으로 테이블이 단순 회전하여 발생하는 입사빔에 대한 제1결정 위치의 이동은 캠에 의해 유도되는 제1결정의 수직 운동에 의해 보정됩니다.

RHEED Unit

RHEED

반사 고에너지 전자 회절장비인 RHEED(Reflection High-Energy Electron Diffraction)는 CF 1.33"플랜지의 마운트와 소형 사이즈의 전자총 구성되어 있습니다.
컴팩트한 전자총으로 인해 손쉬운 유지 관리가 가능하며, 높은 압력조건이나 전자빔의 스캔 평면의 샘플 관찰 시 다른 옵션장치의 병렬조작이 가능하도록 해줍니다

PLD System

PLD / Laser-MBE System Lines

Laser MBE System (Laser Molecular Beam Epitaxy system)은 PVD시 스퍼터링 타겟을 녹이기 위하여 고출력 펄스형 레이저를 이용하는 PLD(Plused Laser Deposition) 장비입니다.

단원소 혹은 다원소 박막의 증착 도중 이들의 두께를 원자단위로 제어하는 것을 가능하게 해주어 초박막(Ultra-Thin Film)이나 규칙 격자(Super Lattice) 박막 제조가 가능하게 해주며 원재료와 동일한 조성비를 갖는 박막의 제조가 가능하여 고품질 박막 제조에 활용되고 있으며, 크게 Compact 타입과 Mobile Combi 타입으로 분류됩니다