RHEED Unit
RHEED
반사 고에너지 전자 회절장비인 RHEED(Reflection High-Energy Electron Diffraction)는 CF 1.33"플랜지의 마운트와 소형 사이즈의 전자총 구성되어 있습니다.
컴팩트한 전자총으로 인해 손쉬운 유지 관리가 가능하며, 높은 압력조건이나 전자빔의 스캔 평면의 샘플 관찰 시 다른 옵션장치의 병렬조작이 가능하도록 해줍니다
PLD System
PLD / Laser-MBE System Lines
Laser MBE System (Laser Molecular Beam Epitaxy system)은 PVD시 스퍼터링 타겟을 녹이기 위하여 고출력 펄스형 레이저를 이용하는 PLD(Plused Laser Deposition) 장비입니다.
단원소 혹은 다원소 박막의 증착 도중 이들의 두께를 원자단위로 제어하는 것을 가능하게 해주어 초박막(Ultra-Thin Film)이나 규칙 격자(Super Lattice) 박막 제조가 가능하게 해주며 원재료와 동일한 조성비를 갖는 박막의 제조가 가능하여 고품질 박막 제조에 활용되고 있으며, 크게 Compact 타입과 Mobile Combi 타입으로 분류됩니다
Atom Scattering Spectroscopy
TOFLAS-3000
원자산란 표면분석장치(Atomic Spawning Surface Analysis Equipment)인 TOFLAS®-3000은 이온산란 분광법 (CAICISS)의 측정원리를 응용하여, 입사 프로브 (Probe)에 이온이 아닌 원자빔을 이용한 장치로서 금속, 반도체, 절연체 시료 표면 혹은 박막성장과정에서 바로 원소 분석과 구조해석이 동시에 가능합니다.
Target
Sputtering Target
TFT용도로 사용되는 IGZO(InGaZnOx) 등의 금속산화물 반도체를 비롯하여 WIDE BAND GAP 재료, RRAM 재료 등의 고품질 투명전도막 재료 (TCO:transparent conductive oxides materials)를 제공하고 있습니다.