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Sputtering Target & Powder

압전, 피에죠 효과 등 우수한 기능을 가진 강유전체 박막은 FeRAM, 각종 센서, 잉크젯 헤드 등의 분야에서 폭넓게 응용되고
있습니다. 강유전체가 갖고 있는 특성을 최대한으로 발휘시키는 고소결밀도(高燒結密度) 스퍼터링 타겟을 비롯한 MOD코팅
재료, MOCVD 재료를 고품질로 갖추어 제공하고 있습니다.
Sputtering Target, PLD Target & Powder
* Ferroelectrics
Pb (Zr,Ti) O3 [PZT]
(Pb,La) (Zr,Ti) O3 [PLZT]
Pb (Zr, Ti, Nb) O3 [PZTN]
Pb (Ni, Nb) O3-PbTiO3 [PNN-PT]
[PNN-PZ]
Pb (Mg, Nb) O3-PbTiO3 [PMN-PT]
SrBi2Ta2O9 [SBT]
(K,Na) TaO3
(K,Na) NbO3
BiFeO3
Bi (Nd,La) TiOx
* Gate insulator film
HfO2
HfSiO(N)
HfO2-Al2O3
La2O3
La2O3-Al2O3
* Electrode
Pt
Ir
IrO2
SrRuO3
LaNiO3
TiN
Nested Butterfly Loops