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Sputtering Target & Powder

투명전극, 반사막, AR코트 및 LED 발광소자 같은 광전자공학박막의 응용에도 그 사용이 점점 확대되고 있습니다.
연구개발용 커스터마이즈 재료부터 AR코트재료까지 고객의 요청에 알맞게 제공해드립니다
Sputtering Target
* Anti-reflective film
MgF2
Nb2O5 (Conductive Nb2Ox)
Al2O3
Ta2O5
TiO2 / SiO2
* Reflective film
Ag-alloy
Al-alloy
* LED
ITO
TiO2:Nb
GaN
Ag-alloy
SnO2-Sb2O3 [ATO]
ZnO+α
* Optical media LED
CuSi+α
GeSbTe
AgInSbTe
ITO+α
Nb205 (Conductive Nb2Ox)
ZnS-SiO2
Nb2Ox Electrical Conductivity
Nb2Ox Electrical Conductivity
Targett Load Power Ar / O2 Proportion Thickness
Φ 200 PulseDC 3KW 85 / 15 70mn
n (Refractive Index)
405nm 550nm 635nm 1550nm
2.57 2.35 2.305 2.22
k (Attenuation Coefficient)
405nm 550nm 635nm 1550nm
1.29E-03 -1.97E-02 -1.38E-02 2.54E-12