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Sputtering Target & Powder

초전도체는 에너지, 전자 분야에서 장비의 혁신화를 실현하고, 기존 장비의 두드러진 개선을 가능케 하였습니다.
특히 이트륨이나 비스무트 등의 고온산화물 초전도체는 그 응용기술 면에서의 개발이 활성화되고 있으며, 최근에는
Undercoat층의 진보로 인하여 신선재(wire rods)에도 적용되고 있습니다.
Sputtering Target, MOCVD Precursor, Powder, Paste
* Superconductor
YBa2Cu3O7 [YBCO123]
Y2BaCuO5 [YBCO211]
GdBa2Cu3O7
Gd2BaCuO5
PrBa2Cu3O7
BiSrCaCuO [Bi-2212, Bi-2201, Bi-2223]
* Intermediate / buffer layer
CeO2
Gd2Zr2O7
Ce
NiO
ZrO2-Y2O3 [YSZ]
LaMnO3
* Undercoat layer
Ni-alloy
MgO
SrTiO3
Al2O3
Mg
Superconductor layer image