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Sputtering Target & Powder
Sputtering Target & Powder
금속산화물반도체
투명전도막재료
초전도체 재료
전지, 에너지 재료
공학 & 광전자학 재료
강유전체 재료
자기미디어 & 디바이스 재료
MOCVD프리커서
MOD코팅
TFT용도로 사용되는 IGZO(InGaZnOx) 등의 금속산화물 반도체를 비롯하여 WIDE BAND GAP 재료, RRAM 재료 등의
고품질 투명전도막 재료 (TCO:transparent conductive oxides materials)를 제공하고 있습니다.
Sputtering Target
* Oxide semiconductor
InGaZnO4 [IGZO1114]
In2Ga2ZnO7 [IGZO2217]
CuAlO2
ZnO
SnO
SrCu2O2
Cu2O
NiO
CuCrO2
ZnIr2O4
* TCO (Transparent Conductive Oxide) material
In2O3-based
ZnO-based
TiO2-based
SnO2-based
Thin Film Transistor (TFT) Structure
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